|
| MOQ: | 1 pezzo |
| prezzo: | US $ 15/PC |
| Imballaggio standard: | Cisterna/serbatoio |
| Periodo di consegna: | 15 GIORNI |
| Metodo di pagamento: | L/C, T/T |
| Capacità di approvvigionamento: | 200 tonnellate/anno |
L'esafluoruro di tungsteno, noto anche come WF6, è un composto chimico costituito da un atomo di tungsteno e sei atomi di fluoro.L'esafluoruro di tungsteno è utilizzato principalmente nell'industria dei semiconduttori per la deposizione di film sottili di tungsteno durante la fabbricazione di circuiti integrati e altri dispositivi elettronici.
Ecco alcuni punti chiave sul gas esafluoruro di tungsteno:
Deposito di pellicole di tungsteno: l'esafluoruro di tungsteno è ampiamente utilizzato come gas precursore nei processi di deposizione chimica a vapore (CVD) per depositare pellicole sottili di tungsteno.Questi film servono come strati conduttori nella fabbricazione di dispositivi microelettronici, come transistor, interconnessioni ed elettrodi gate.
Alta purezza e stabilità: il gas WF6 è in genere disponibile in gradi di alta purezza per garantire la qualità e l'integrità delle pellicole di tungsteno depositate.che consentono una crescita controllata e uniforme della pellicola in condizioni di processo specifiche.
Processo CVD: durante il processo CVD, il gas esafluoruro di tungsteno viene introdotto in una camera di deposizione insieme a un agente riduttore, come il gas idrogeno.Le molecole di WF6 si decompongono a temperature elevate, depositando gli atomi di tungsteno sulla superficie del substrato in modo controllato.
Considerazioni di sicurezza: L'esafluoruro di tungsteno è un gas altamente tossico e corrosivo, che richiede una manipolazione e una conservazione attente.Misure di sicurezza adeguate, compreso l'uso di attrezzature specializzate e attrezzature di protezione, sono essenziali quando si lavora con WF6.
Impatto ambientale: come altri composti fluorurati, l'esafluoruro di tungsteno ha il potenziale di contribuire a problemi ambientali.Sono necessarie pratiche di gestione e smaltimento attente per prevenire il rilascio nell'ambiente.
È importante notare che l'esafluoruro di tungsteno è utilizzato principalmente in applicazioni industriali e specializzate, e la sua manipolazione richiede competenza e rispetto dei protocolli di sicurezza.
| Oggetti di prova | Unità | Requisiti di qualità | Risultati delle prove |
| CF4 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| O2 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| N2 | ppm | < 1 | 0.03 |
| CO | ppm | < 0.5 | < 0.02 |
| Diossido di carbonio | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| SiF4 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| SF6 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| HF | ppm | < 5 | 0.19 |
| Al | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Come | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| B | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| Ca | ppb | ≤ 5 | < 0.200 |
| Cd | ppb | ≤ 2 | < 0.001 |
| Cr | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Fe | ppb | ≤ 10 | < 0.007 |
| K. | ppb | ≤ 5 | < 0.100 |
| M | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| No. | ppb | ≤ 5 | < 0.040 |
| - Sì. | ppb | ≤ 0.1 | < 0.001 |
| Ti | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| Li | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| U | ppb | ≤ 0.05 | < 0.001 |
| Zn | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| - Sì. | ppb | ≤ 10 | < 0.100 |
| Pb | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| P | ppb | ≤ 2 | < 0.300 |
| Mg | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Ni | ppb | ≤ 20 | < 0.030 |
| Cu | ppb | ≤ 5 | < 0.005 |
| Mo. | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| Impurità totali di altri metalli | ppb | ≤ 500 | < 0.0010 |
|
|
| MOQ: | 1 pezzo |
| prezzo: | US $ 15/PC |
| Imballaggio standard: | Cisterna/serbatoio |
| Periodo di consegna: | 15 GIORNI |
| Metodo di pagamento: | L/C, T/T |
| Capacità di approvvigionamento: | 200 tonnellate/anno |
L'esafluoruro di tungsteno, noto anche come WF6, è un composto chimico costituito da un atomo di tungsteno e sei atomi di fluoro.L'esafluoruro di tungsteno è utilizzato principalmente nell'industria dei semiconduttori per la deposizione di film sottili di tungsteno durante la fabbricazione di circuiti integrati e altri dispositivi elettronici.
Ecco alcuni punti chiave sul gas esafluoruro di tungsteno:
Deposito di pellicole di tungsteno: l'esafluoruro di tungsteno è ampiamente utilizzato come gas precursore nei processi di deposizione chimica a vapore (CVD) per depositare pellicole sottili di tungsteno.Questi film servono come strati conduttori nella fabbricazione di dispositivi microelettronici, come transistor, interconnessioni ed elettrodi gate.
Alta purezza e stabilità: il gas WF6 è in genere disponibile in gradi di alta purezza per garantire la qualità e l'integrità delle pellicole di tungsteno depositate.che consentono una crescita controllata e uniforme della pellicola in condizioni di processo specifiche.
Processo CVD: durante il processo CVD, il gas esafluoruro di tungsteno viene introdotto in una camera di deposizione insieme a un agente riduttore, come il gas idrogeno.Le molecole di WF6 si decompongono a temperature elevate, depositando gli atomi di tungsteno sulla superficie del substrato in modo controllato.
Considerazioni di sicurezza: L'esafluoruro di tungsteno è un gas altamente tossico e corrosivo, che richiede una manipolazione e una conservazione attente.Misure di sicurezza adeguate, compreso l'uso di attrezzature specializzate e attrezzature di protezione, sono essenziali quando si lavora con WF6.
Impatto ambientale: come altri composti fluorurati, l'esafluoruro di tungsteno ha il potenziale di contribuire a problemi ambientali.Sono necessarie pratiche di gestione e smaltimento attente per prevenire il rilascio nell'ambiente.
È importante notare che l'esafluoruro di tungsteno è utilizzato principalmente in applicazioni industriali e specializzate, e la sua manipolazione richiede competenza e rispetto dei protocolli di sicurezza.
| Oggetti di prova | Unità | Requisiti di qualità | Risultati delle prove |
| CF4 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| O2 | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| N2 | ppm | < 1 | 0.03 |
| CO | ppm | < 0.5 | < 0.02 |
| Diossido di carbonio | ppm | < 0.5 | < 0.01 |
| SiF4 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| SF6 | ppm | < 0.5 | < 0.1 |
| HF | ppm | < 5 | 0.19 |
| Al | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Come | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| B | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| Ca | ppb | ≤ 5 | < 0.200 |
| Cd | ppb | ≤ 2 | < 0.001 |
| Cr | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Fe | ppb | ≤ 10 | < 0.007 |
| K. | ppb | ≤ 5 | < 0.100 |
| M | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| No. | ppb | ≤ 5 | < 0.040 |
| - Sì. | ppb | ≤ 0.1 | < 0.001 |
| Ti | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| Li | ppb | ≤ 10 | < 0.002 |
| U | ppb | ≤ 0.05 | < 0.001 |
| Zn | ppb | ≤ 10 | < 0.005 |
| - Sì. | ppb | ≤ 10 | < 0.100 |
| Pb | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| P | ppb | ≤ 2 | < 0.300 |
| Mg | ppb | ≤ 10 | < 0.020 |
| Ni | ppb | ≤ 20 | < 0.030 |
| Cu | ppb | ≤ 5 | < 0.005 |
| Mo. | ppb | ≤ 10 | < 0.001 |
| Impurità totali di altri metalli | ppb | ≤ 500 | < 0.0010 |
