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Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza

Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza

MOQ: 1 kg
prezzo: US $500/kg
Imballaggio standard: Cisterna/serbatoio
Periodo di consegna: 15 GIORNI
Metodo di pagamento: L/C, T/T
Capacità di approvvigionamento: 2000 tonnellate/anno
Informazione dettagliata
Luogo di origine
Cina
Marca
CMC
Certificazione
COA
Numero di modello
NF3
Nome del prodotto:
Trifluoruro di azoto
Standard per cilindri:
DOT/ISO/GB
valvola:
Diss640
Pressione del cilindro:
15MPa/20MPa
Punto di fusione:
-206.79 ºC
Punto di ebollizione:
-129.0 ºC
Apparizione:
Incolore e inodore
Pacchetto di trasporto:
47L, 440L
Specificità:
47L, 440L
Marchio:
CMC
Origine:
Cina
Codice S.A.:
28129011
Capacità di alimentazione:
5000 tonnellate/anno
Cas no.:
7783-54-2
Formula:
NF3
EINECS:
7783-54-2
Costituente:
Aria pura industriale
Norma di grado:
Grado industriale
Proprietà chimica:
GAS ININFIAMMABILE
Personalizzazione:
Disponibile Richiesta personalizzata
Quantità di ordine minimo:
1 kg
Prezzo:
US $500/kg
Imballaggi particolari:
Cisterna/serbatoio
Tempi di consegna:
15 GIORNI
Termini di pagamento:
L/C, T/T
Capacità di alimentazione:
2000 tonnellate/anno
Descrizione del prodotto

Descrizione del prodotto

Il gas NF3 si riferisce al trifluoruro di azoto allo stato gassoso.È comunemente utilizzato in varie applicazioni industriali a causa delle sue proprietà unicheEcco alcuni punti chiave sul gas NF3:

  1. Composizione chimica: NF3 è costituito da un atomo di azoto (N) legato a tre atomi di fluoro (F).

  2. Proprietà fisiche: NF3 è un gas non infiammabile con un punto di ebollizione di -129 gradi Celsius (-200 gradi Fahrenheit) e un punto di fusione di -206 gradi Celsius (-339 gradi Fahrenheit).È leggermente più denso dell'aria e rimane allo stato gassoso a temperatura ambiente e pressione atmosferica normale.

  3. Utilizzazioni: il gas NF3 ha diverse applicazioni industriali:

    • Produzione di elettronica: viene comunemente utilizzato nell'industria elettronica come agente di pulizia per rimuovere i residui da wafer di silicio, cameree altri componenti elettronici durante il processo di produzioneIl gas NF3 è preferito a causa della sua bassa reattività con molti materiali e della sua capacità di rimuovere efficacemente i composti fluorurati.

    • Etching al plasma: NF3 è utilizzato come ettente al plasma nell'industria dei semiconduttori.È utilizzato per rimuovere selettivamente i materiali dalla superficie delle onde di silicio e di altri substrati durante la fabbricazione di microelettronica.

    • Fabbricazione di display a schermo piatto: il gas NF3 è utilizzato anche nella produzione di display a schermo piatto, come i display a cristalli liquidi (LCD) e i display a plasma.È utilizzato per i processi di pulizia e incisione durante la produzione di questi display.

    • Pannelli solari: NF3 trova applicazione nella produzione di celle fotovoltaiche a film sottile utilizzate nei pannelli solari.

    • Agente fluorante: può essere utilizzato come agente fluorante in varie reazioni chimiche per introdurre atomi di fluorino in molecole organiche.

  4. Considerazioni di sicurezza: sebbene il gas NF3 non sia infiammabile, è comunque importante maneggiarlo con attenzione e seguire le misure di sicurezza appropriate.può spostare l' ossigeno in spazi ristrettiQuando si lavora con il gas NF3, occorre assicurare un'adeguata ventilazione e seguire le opportune linee guida e attrezzature di sicurezza.

Quando si manipola il gas NF3, si raccomanda di rispettare i protocolli di sicurezza, utilizzare attrezzature protettive adeguate e garantire una buona ventilazione nell'area di lavoro per mantenere un ambiente sicuro.

 

Informazioni di base
 

Pacchetto di trasporto: 47L, 440L Punto di fusione -206,79°C
Marchio: CMC Punto di ebollizione -129,0°C
Specificità 100.00% Capacità di produzione 5000 tonnellate/anno
Pressione del cilindro 15MPa/20MPa Valvola Qf-30A/Cga350
Apparizione Incolore e inodore Densità 20,96 kg/m3


Specificità:

Specificità Standard aziendale
NF3 ≥ 99,996%
CF4 20 ppm
N2 5 ppm
O2+AR 3 ppm
CO 1 ppm
Diossido di carbonio 00,5 ppm
N2O 1 ppm
SF6 2 ppm
Acqua di mare 1 ppm
Espresso come HF 1 ppm

 

Foto dettagliata
                                 Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza 0
 

Profilo aziendale

Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza 1

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd è dotata di personale qualificato, combinare molti anni di esperienza nel settore del gas. Forniamo cilindro di gas, gas elettronico, ecc. e il supporto del gas, pannello,Valvole e accessori e altre apparecchiature, parti e servizi di ingegneria ai nostri clienti in Cina e in tutto il mondo; i prodotti sono coinvolti in vari campi industriali, come chip semiconduttori, celle solari, LED, TFT-LCD, fibra ottica,vetroLa nostra missione è quella di collaborare con i nostri clienti globali per fornire supporto, soluzioni e prodotti di qualità innovativi, affidabili e sicuri.
I nostri prodotti comprendono principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetilene, elio, gas misto laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e altri gas elettronici.
Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza 2
Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza 3
 
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Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza
MOQ: 1 kg
prezzo: US $500/kg
Imballaggio standard: Cisterna/serbatoio
Periodo di consegna: 15 GIORNI
Metodo di pagamento: L/C, T/T
Capacità di approvvigionamento: 2000 tonnellate/anno
Informazione dettagliata
Luogo di origine
Cina
Marca
CMC
Certificazione
COA
Numero di modello
NF3
Nome del prodotto:
Trifluoruro di azoto
Standard per cilindri:
DOT/ISO/GB
valvola:
Diss640
Pressione del cilindro:
15MPa/20MPa
Punto di fusione:
-206.79 ºC
Punto di ebollizione:
-129.0 ºC
Apparizione:
Incolore e inodore
Pacchetto di trasporto:
47L, 440L
Specificità:
47L, 440L
Marchio:
CMC
Origine:
Cina
Codice S.A.:
28129011
Capacità di alimentazione:
5000 tonnellate/anno
Cas no.:
7783-54-2
Formula:
NF3
EINECS:
7783-54-2
Costituente:
Aria pura industriale
Norma di grado:
Grado industriale
Proprietà chimica:
GAS ININFIAMMABILE
Personalizzazione:
Disponibile Richiesta personalizzata
Quantità di ordine minimo:
1 kg
Prezzo:
US $500/kg
Imballaggi particolari:
Cisterna/serbatoio
Tempi di consegna:
15 GIORNI
Termini di pagamento:
L/C, T/T
Capacità di alimentazione:
2000 tonnellate/anno
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Il gas NF3 si riferisce al trifluoruro di azoto allo stato gassoso.È comunemente utilizzato in varie applicazioni industriali a causa delle sue proprietà unicheEcco alcuni punti chiave sul gas NF3:

  1. Composizione chimica: NF3 è costituito da un atomo di azoto (N) legato a tre atomi di fluoro (F).

  2. Proprietà fisiche: NF3 è un gas non infiammabile con un punto di ebollizione di -129 gradi Celsius (-200 gradi Fahrenheit) e un punto di fusione di -206 gradi Celsius (-339 gradi Fahrenheit).È leggermente più denso dell'aria e rimane allo stato gassoso a temperatura ambiente e pressione atmosferica normale.

  3. Utilizzazioni: il gas NF3 ha diverse applicazioni industriali:

    • Produzione di elettronica: viene comunemente utilizzato nell'industria elettronica come agente di pulizia per rimuovere i residui da wafer di silicio, cameree altri componenti elettronici durante il processo di produzioneIl gas NF3 è preferito a causa della sua bassa reattività con molti materiali e della sua capacità di rimuovere efficacemente i composti fluorurati.

    • Etching al plasma: NF3 è utilizzato come ettente al plasma nell'industria dei semiconduttori.È utilizzato per rimuovere selettivamente i materiali dalla superficie delle onde di silicio e di altri substrati durante la fabbricazione di microelettronica.

    • Fabbricazione di display a schermo piatto: il gas NF3 è utilizzato anche nella produzione di display a schermo piatto, come i display a cristalli liquidi (LCD) e i display a plasma.È utilizzato per i processi di pulizia e incisione durante la produzione di questi display.

    • Pannelli solari: NF3 trova applicazione nella produzione di celle fotovoltaiche a film sottile utilizzate nei pannelli solari.

    • Agente fluorante: può essere utilizzato come agente fluorante in varie reazioni chimiche per introdurre atomi di fluorino in molecole organiche.

  4. Considerazioni di sicurezza: sebbene il gas NF3 non sia infiammabile, è comunque importante maneggiarlo con attenzione e seguire le misure di sicurezza appropriate.può spostare l' ossigeno in spazi ristrettiQuando si lavora con il gas NF3, occorre assicurare un'adeguata ventilazione e seguire le opportune linee guida e attrezzature di sicurezza.

Quando si manipola il gas NF3, si raccomanda di rispettare i protocolli di sicurezza, utilizzare attrezzature protettive adeguate e garantire una buona ventilazione nell'area di lavoro per mantenere un ambiente sicuro.

 

Informazioni di base
 

Pacchetto di trasporto: 47L, 440L Punto di fusione -206,79°C
Marchio: CMC Punto di ebollizione -129,0°C
Specificità 100.00% Capacità di produzione 5000 tonnellate/anno
Pressione del cilindro 15MPa/20MPa Valvola Qf-30A/Cga350
Apparizione Incolore e inodore Densità 20,96 kg/m3


Specificità:

Specificità Standard aziendale
NF3 ≥ 99,996%
CF4 20 ppm
N2 5 ppm
O2+AR 3 ppm
CO 1 ppm
Diossido di carbonio 00,5 ppm
N2O 1 ppm
SF6 2 ppm
Acqua di mare 1 ppm
Espresso come HF 1 ppm

 

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Trifluoruro di azoto di gas per bombole di grado industriale NF3 di alta purezza 1

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd è dotata di personale qualificato, combinare molti anni di esperienza nel settore del gas. Forniamo cilindro di gas, gas elettronico, ecc. e il supporto del gas, pannello,Valvole e accessori e altre apparecchiature, parti e servizi di ingegneria ai nostri clienti in Cina e in tutto il mondo; i prodotti sono coinvolti in vari campi industriali, come chip semiconduttori, celle solari, LED, TFT-LCD, fibra ottica,vetroLa nostra missione è quella di collaborare con i nostri clienti globali per fornire supporto, soluzioni e prodotti di qualità innovativi, affidabili e sicuri.
I nostri prodotti comprendono principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetilene, elio, gas misto laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e altri gas elettronici.
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