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C3h9al TMA Serbatoio di immagazzinamento del gas 6,5n 99,99995% Trimetil-alluminio
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C3h9al TMA Serbatoio di immagazzinamento del gas 6,5n 99,99995% Trimetil-alluminio
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C3h9al TMA Serbatoio di immagazzinamento del gas 6,5n 99,99995% Trimetil-alluminio

MOQ: 1 L
prezzo: US $650/L
Imballaggio standard: Cisterna/serbatoio
Periodo di consegna: 15 GIORNI
Metodo di pagamento: L/C, T/T
Capacità di approvvigionamento: 5000L/month
Informazione dettagliata
Descrizione del prodotto
Informazione dettagliata
Luogo di origine
Cina
Marca
CMC
Certificazione
COA
Numero di modello
C3h9al
Documento
Brochure del prodotto PDF
Numero modello.:
Altri prodotti di acciaio
Apparizione:
Non colorato
Formula chimica:
C3h9al
Trasporti:
Via mare
Numero di modello:
Altri prodotti di acciaio
Pacchetto di trasporto:
Fabbricazione a partire da:
Specificità:
Fabbricazione a partire da:
Marchio:
CMC
Origine:
Cina
Codice S.A.:
2812190091
Capacità di alimentazione:
100t/year
Numero CAS.:
10025-78-2
Formula:
C3h9al
EINECS:
7783-82-6
Costituente:
Aria pura industriale
Norma di grado:
Grado industriale
Proprietà chimica:
GAS ININFIAMMABILE
Personalizzazione:
Disponibile Richiesta personalizzata
Quantità di ordine minimo:
1 L
Prezzo:
US $650/L
Imballaggi particolari:
Cisterna/serbatoio
Tempi di consegna:
15 GIORNI
Termini di pagamento:
L/C, T/T
Capacità di alimentazione:
5000L/month
Evidenziare:

Serbatoio di gas compresso C3h9al TMA

,

6.5n serbatoio di gas compresso

,

C3h9al TMA immagazzinamento di bottiglie di gas

Descrizione del prodotto

Descrizione del prodotto

Il trimetilaluminio (TMA), noto anche come trimetil alluminio, è un composto organometallico con formula chimica Al ((CH3) 3.odore sgradevoleIl TMA è altamente reattivo e viene utilizzato principalmente come precursore in vari processi chimici, in particolare nell'industria dei semiconduttori per la deposizione di film sottili.

Ecco alcune delle principali proprietà e applicazioni del trimetilaluminio:

Proprietà:

  1. Formula chimica: Al ((CH3) 3
  2. Peso molecolare: 90,1 g/mol
  3. Punto di ebollizione: 125-126°C (257-259°F)
  4. Punto di fusione: -93°C (-135°F)
  5. Densità: 0,777 g/cm3 a 20°C (68°F)

Applicazioni:

  1. Deposito chimico a vapore (CVD): il TMA è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori come precursore nel processo di deposizione chimica a vapore per depositare film sottili di composti di alluminio,come l'ossido di alluminio (Al2O3)Questi film sono essenziali per la fabbricazione di dispositivi microelettronici.
  2. Deposizione a strato atomico (ALD): il TMA è utilizzato anche nella deposizione a strato atomico, una tecnica che consente una deposizione precisa e conforme di film ultra-sottili.Il TMA è spesso combinato con altri precursori per depositare pellicole contenenti alluminio di alta qualità.
  3. Catalisi: il trimetilaluminio può agire come catalizzatore o co-catalizzatore in varie reazioni organiche, come i processi di polimerizzazione e idroformilazione.
  4. Ritardanti della fiamma: il TMA è talvolta usato come additivo ritardante della fiamma in alcuni polimeri per migliorare le loro proprietà di resistenza al fuoco.
  5. Ricerca e sviluppo: la TMA è impiegata nei laboratori di ricerca per esplorare nuove vie sintetiche, sviluppare nuovi materiali e studiare la chimica organometallica.

E' importante notare che il trimetilaluminio e' altamente infiammabile e reagisce violentemente con l'aria e l'acqua.compresa la manipolazione in una zona ben ventilata e l'utilizzo di attrezzature specializzate, sono necessari quando si lavora con questo composto.

 

Informazioni di base.
Numero di modello: C3H9Al Fonte Riforma catalitica
Pacchetto di trasporto Fabbricazione a partire da: Specificità 7.5L / 5kg
Marchio CMC Origine Suzhou, Cina
Codice S.A. 2812190091 Capacità di produzione 100 t/anno
Descrizione del prodotto
Certificato di analisi
Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alWholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alTutti i valori PPM in peso sul metallo

Metodo di analisi:ICP-OES-1, Si&Zn Metodo di analisi degli elementi:ICP-OES-D

Impurità organiche o di ossigeno per FT-NMR

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Informazioni sulla società:

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd è dotata di personale qualificato, combinano molti anni di esperienza nel settore del gas. Forniamo cilindro di gas, gas elettronico, ecc. e il supporto del gas, pannello,Valvole e accessori e altre apparecchiature, parti e servizi di ingegneria ai nostri clienti in Cina e in tutto il mondo; i prodotti sono coinvolti in vari campi industriali, come chip semiconduttori, celle solari, LED, TFT-LCD, fibra ottica,vetroLa nostra missione è quella di collaborare con i nostri clienti globali per fornire supporto, soluzioni e prodotti di qualità innovativi, affidabili e sicuri.
I nostri prodotti comprendono principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetilene, elio, gas misto laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e altri gas elettronici.

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Foto dettagliate

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9alWholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al

Display dell' laboratorio:

Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Laboratorio di deposito:
Wholesale Semiconductor Gas Trimethylaluminium Tma 6.5n 99.99995% C3h9al
Imballaggio e spedizione

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Tag: 

Gas fosfico,  

fosfina gassosa,  

serbatoio di gas compresso

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MOQ: 1 L
prezzo: US $650/L
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Periodo di consegna: 15 GIORNI
Metodo di pagamento: L/C, T/T
Capacità di approvvigionamento: 5000L/month
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Cina
Marca
CMC
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Numero di modello
C3h9al
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Apparizione:
Non colorato
Formula chimica:
C3h9al
Trasporti:
Via mare
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Fabbricazione a partire da:
Specificità:
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Marchio:
CMC
Origine:
Cina
Codice S.A.:
2812190091
Capacità di alimentazione:
100t/year
Numero CAS.:
10025-78-2
Formula:
C3h9al
EINECS:
7783-82-6
Costituente:
Aria pura industriale
Norma di grado:
Grado industriale
Proprietà chimica:
GAS ININFIAMMABILE
Personalizzazione:
Disponibile Richiesta personalizzata
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1 L
Prezzo:
US $650/L
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Il trimetilaluminio (TMA), noto anche come trimetil alluminio, è un composto organometallico con formula chimica Al ((CH3) 3.odore sgradevoleIl TMA è altamente reattivo e viene utilizzato principalmente come precursore in vari processi chimici, in particolare nell'industria dei semiconduttori per la deposizione di film sottili.

Ecco alcune delle principali proprietà e applicazioni del trimetilaluminio:

Proprietà:

  1. Formula chimica: Al ((CH3) 3
  2. Peso molecolare: 90,1 g/mol
  3. Punto di ebollizione: 125-126°C (257-259°F)
  4. Punto di fusione: -93°C (-135°F)
  5. Densità: 0,777 g/cm3 a 20°C (68°F)

Applicazioni:

  1. Deposito chimico a vapore (CVD): il TMA è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori come precursore nel processo di deposizione chimica a vapore per depositare film sottili di composti di alluminio,come l'ossido di alluminio (Al2O3)Questi film sono essenziali per la fabbricazione di dispositivi microelettronici.
  2. Deposizione a strato atomico (ALD): il TMA è utilizzato anche nella deposizione a strato atomico, una tecnica che consente una deposizione precisa e conforme di film ultra-sottili.Il TMA è spesso combinato con altri precursori per depositare pellicole contenenti alluminio di alta qualità.
  3. Catalisi: il trimetilaluminio può agire come catalizzatore o co-catalizzatore in varie reazioni organiche, come i processi di polimerizzazione e idroformilazione.
  4. Ritardanti della fiamma: il TMA è talvolta usato come additivo ritardante della fiamma in alcuni polimeri per migliorare le loro proprietà di resistenza al fuoco.
  5. Ricerca e sviluppo: la TMA è impiegata nei laboratori di ricerca per esplorare nuove vie sintetiche, sviluppare nuovi materiali e studiare la chimica organometallica.

E' importante notare che il trimetilaluminio e' altamente infiammabile e reagisce violentemente con l'aria e l'acqua.compresa la manipolazione in una zona ben ventilata e l'utilizzo di attrezzature specializzate, sono necessari quando si lavora con questo composto.

 

Informazioni di base.
Numero di modello: C3H9Al Fonte Riforma catalitica
Pacchetto di trasporto Fabbricazione a partire da: Specificità 7.5L / 5kg
Marchio CMC Origine Suzhou, Cina
Codice S.A. 2812190091 Capacità di produzione 100 t/anno
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Metodo di analisi:ICP-OES-1, Si&Zn Metodo di analisi degli elementi:ICP-OES-D

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Informazioni sulla società:

Shanghai Chemike Chemical Co., Ltd è dotata di personale qualificato, combinano molti anni di esperienza nel settore del gas. Forniamo cilindro di gas, gas elettronico, ecc. e il supporto del gas, pannello,Valvole e accessori e altre apparecchiature, parti e servizi di ingegneria ai nostri clienti in Cina e in tutto il mondo; i prodotti sono coinvolti in vari campi industriali, come chip semiconduttori, celle solari, LED, TFT-LCD, fibra ottica,vetroLa nostra missione è quella di collaborare con i nostri clienti globali per fornire supporto, soluzioni e prodotti di qualità innovativi, affidabili e sicuri.
I nostri prodotti comprendono principalmente: H2, O2, N2, Ar, CO2, propano, acetilene, elio, gas misto laser, SiH4, Sih2cl2, SiHCL3, SiCL4, NH3, CF4, NF3, SF6, HCL, N2O, gas misto dopante (TMB, PH3,B2H6) e altri gas elettronici.

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